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判斷題當(dāng)掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移到下方薄膜材料上時，必須要考慮到光刻膠的性質(zhì)（正膠還是負(fù)膠）。

1.判斷題如果掩模版上絕大多數(shù)部分是不透光的區(qū)域，只有很少一部分透光，這種掩模版稱為亮場掩模版。

2.判斷題掩模版一般是在石英玻璃涂抹上一定形狀的鉻等材料，形成明暗相間的圖形。

3.判斷題制作MOS管時，一般先進(jìn)行源的注入，再進(jìn)行漏的注入。

4.判斷題CMOS制作時，源、漏、柵等結(jié)構(gòu)都做在場氧化區(qū)。

5.判斷題LOCOS工藝主要用于制作MOS管的柵氧結(jié)構(gòu)。