多項選擇題集成電路版圖物理驗證必須要做的步驟主要有哪些？（）
A.DRC
B.ERC
C.LVS
D.SVS
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1.單項選擇題集成電路再分析軟件其處理的主要對象是（）。
A.GDS II文件
B.實物芯片照片
C.cadence中繪制的版圖
D.芯片電路圖
2.單項選擇題摩爾定律中每一代集成電路上晶體管密度翻倍值是多少？（）
A.1倍
B.2倍
C.3倍
D.4倍
5.多項選擇題外延雙阱工藝的優(yōu)點包括（）。
A.實現(xiàn)N阱和P阱獨立控制
B.更平坦的表面
C.做在阱區(qū)內(nèi)的器件可以減少受到α粒子輻射的影響
D.抑制閂鎖效應(yīng)
最新試題
集成電路的制造工藝，需要采用隔離技術(shù)，常見的隔離方法有（）。
題型：多項選擇題
顯影后，被曝光區(qū)域的光刻膠被去除，該種光刻膠稱為（）。
題型：單項選擇題
集成電路再分析軟件其處理的主要對象是（）。
題型：單項選擇題
在組合電路中，NMOS管串聯(lián)實現(xiàn)的是什么邏輯？（）
題型：單項選擇題
集成電路版圖物理驗證必須要做的步驟主要有哪些？（）
題型：多項選擇題
無論是施加正偏壓還是反偏壓，MOS電容都是一種線性電容。
題型：判斷題
展現(xiàn)電路的邏輯電路連接的是哪種視圖模式?（）
題型：單項選擇題
MOS結(jié)構(gòu)指的是金屬氧化物半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的簡稱。
題型：判斷題
一個四輸入的或非門，一般采用幾個pitch？（）
題型：單項選擇題
CMOS電路是通過有源區(qū)進行隔離的，屬于絕緣介質(zhì)隔離。
題型：判斷題