單項選擇題在制作MOS管時，采用LOCOS工藝容易出現(xiàn)（）。
A.溝道效應(yīng)
B.鳥嘴效應(yīng)
C.寄生效用
D.閂鎖效應(yīng)
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1.單項選擇題光刻時，將掩模版直接放在晶圓表面，與表面的光刻膠接觸，該種光刻方式稱為（）。
A.接觸式
B.接近式
C.投影式
D.步進式
2.單項選擇題源漏注入之后，必須進行（）工藝，修復(fù)晶格損傷，激活雜質(zhì)。
A.氧化
B.快速熱處理
C.退火
D.擴散
3.單項選擇題未進行摻雜的二氧化硅薄膜，通常簡寫為（）。
A.PSG
B.USG
C.BSG
D.FSG
4.單項選擇題我們利用LOCOS技術(shù)制作MOS中的（）。
A.場氧區(qū)
B.源、漏
C.柵
D.有源區(qū)
5.單項選擇題顯影后，被曝光區(qū)域的光刻膠被去除，該種光刻膠稱為（）。
A.負膠
B.正膠
C.光刻抗蝕劑
D.光阻
最新試題
光刻時，將掩模版直接放在晶圓表面，與表面的光刻膠接觸，該種光刻方式稱為（）。
題型：單項選擇題
源漏注入之后，必須進行（）工藝，修復(fù)晶格損傷，激活雜質(zhì)。
題型：單項選擇題
如果想在電路圖模式下編輯符號，可以選擇以下哪個命令？（）
題型：單項選擇題
電源線和地線一般用什么圖層來畫？（）
題型：單項選擇題
為了后續(xù)連接方便，信號端一般用什么圖層引出?（）
題型：單項選擇題
版圖繪制時一般用哪個圖層來實現(xiàn)器件連接？（）
題型：單項選擇題
MOS管版圖一般匹配原則有（）。
題型：多項選擇題
未進行摻雜的二氧化硅薄膜，通常簡寫為（）。
題型：單項選擇題
集成電路的制造工藝，需要采用隔離技術(shù)，常見的隔離方法有（）。
題型：多項選擇題
一個四輸入的或非門，一般采用幾個pitch？（）
題型：單項選擇題