最新試題
例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個基本步驟。
題型:問答題
描述RF濺射系統(tǒng)。
題型:問答題
給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么?
題型:問答題
例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。
題型:問答題
干法刻蝕的目的是什么?例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點。干法刻蝕的不足之處是什么?
題型:問答題
離子源的目的是什么?最常用的離子源是什么?
題型:問答題
解釋掃描投影光刻機是怎樣工作的?掃描投影光刻機努力解決什么問題?
題型:問答題
解釋正性光刻和負性光刻的區(qū)別?為什么正膠是普遍使用的光刻膠?最常用的正膠是指哪些膠?
題型:問答題
光刻中采用步進掃描技術(shù)獲得了什么好處?
題型:問答題
什么是阻擋層金屬?阻擋層材料的基本特征是什么?哪種金屬常被用作阻擋層金屬?
題型:問答題