判斷題EDA是計(jì)算機(jī)輔助測(cè)試的英文簡(jiǎn)稱。
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CE定律發(fā)展面臨的問題包括()。
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碳納米管場(chǎng)效應(yīng)晶體管是未來晶體管發(fā)展趨勢(shì)之一。
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注入損傷與注入離子的以下哪個(gè)參數(shù)無關(guān)?()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
刻蝕工藝可以和以下哪個(gè)工藝結(jié)合來實(shí)現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移?()
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光刻工藝的特點(diǎn)包括()。
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光刻工藝的設(shè)備核心是()。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
消除鳥嘴效應(yīng)的方法有()。
題型:多項(xiàng)選擇題