最新試題
未進(jìn)行摻雜的二氧化硅薄膜，通常簡寫為（）。
題型：單項選擇題
光刻時，將掩模版直接放在晶圓表面，與表面的光刻膠接觸，該種光刻方式稱為（）。
題型：單項選擇題
CMOS電路是通過有源區(qū)進(jìn)行隔離的，屬于絕緣介質(zhì)隔離。
題型：判斷題
摩爾定律中每一代集成電路上晶體管密度翻倍值是多少？（）
題型：單項選擇題
集成電路版圖物理驗證必須要做的步驟主要有哪些？（）
題型：多項選擇題
為了實現(xiàn)全局平坦化，在集成電路中，經(jīng)常采用（）工藝。
題型：單項選擇題
源漏注入之后，必須進(jìn)行（）工藝，修復(fù)晶格損傷，激活雜質(zhì)。
題型：單項選擇題
在制作MOS管時，采用LOCOS工藝容易出現(xiàn)（）。
題型：單項選擇題
CMOS制作時，常常用作鈍化層的材料是（）。
題型：多項選擇題
版圖繪制時一般用哪個圖層來實現(xiàn)器件連接？（）
題型：單項選擇題