單項選擇題集成電路再分析軟件其處理的主要對象是（）。

A.GDS II文件
B.實物芯片照片
C.cadence中繪制的版圖
D.芯片電路圖


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4.多項選擇題外延雙阱工藝的優(yōu)點包括（）。

A.實現N阱和P阱獨立控制
B.更平坦的表面
C.做在阱區(qū)內的器件可以減少受到α粒子輻射的影響
D.抑制閂鎖效應

5.多項選擇題CMOS制作時，常常用作鈍化層的材料是（）。

A.氮化硅
B.二氧化硅
C.多晶硅
D.單晶硅