填空題

Si襯底上熱氧化的機(jī)理由()模型確定。氧化反應(yīng)的快慢與三個(gè)因素有關(guān),即:()。氧化層厚度的理論計(jì)算公式為:式中A、B為與擴(kuò)散率成正比的常數(shù),τ為由()決定的時(shí)間修正系數(shù)。


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