連續(xù)噴霧顯影、旋覆浸沒顯影。 顯影溫度，顯影時間，顯影液量，硅片洗盤，當(dāng)量濃度，清洗，排風(fēng)。
最新試題
刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。
例舉離子注入設(shè)備的5個主要子系統(tǒng)。
光刻中采用步進掃描技術(shù)獲得了什么好處？
什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？
解釋離子束擴展和空間電荷中和。
例舉雙大馬士革金屬化過程的10個步驟。
例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。
描述化學(xué)機械平坦化工藝。
描述RF濺射系統(tǒng)。
描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。
