最新試題
描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。
刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。
光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？
例舉雙大馬士革金屬化過程的10個步驟。
定義刻蝕速率并描述它的計算公式。為什么希望有高的刻蝕速率？
解釋鋁已經(jīng)被選擇作為微芯片互連金屬的原因。
描述電子回旋共振（ECR）。
描述RF濺射系統(tǒng)。
例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。
什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？
