填空題光學(xué)光刻機(jī)的主要曝光光線的是波長為（）的g線和（）的i線，適合1微米以上特征尺寸的光刻。常用（）的KrF和（）的ArF準(zhǔn)分子激光做1微米以下特征尺寸的光刻光源。
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